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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>去胶机>IoN 10Q IoN系列等离子清洗去胶系统

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IoN 10Q IoN系列等离子清洗去胶系统

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半导体前道去胶

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。










冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

IoN系列等离子系统具有多种射频电源选项,可满足客户的特定工艺和产量要求。 我们提供不同腔体和电配置,大腔体可达 1200 升。

PVA TePla 的 IoN 10Q 是一款桌式全功能射频等离子机,可用于批量晶圆去胶和清除残胶,为实验室和量产使用而设计,多可处理 25片晶圆,晶圆大尺寸为 150 毫米。

PVA TePla的IoN 100-40Q是一款功能齐全的射频等离子机,可用于批量晶圆去胶和清除残胶,为实验室和量产使用而设计,多可处理50片晶圆,晶圆大尺寸为200毫米。

PVA TePla 的 IoN 单片晶圆去胶机是一款功能齐全的先进射频等离子机,可用于单片晶圆去胶和清除残胶,为实验室和量产使用而设计,可处理大的晶圆为200毫米。

PVA TePla 的 IoN 200 是一款功能齐全的射频等离子机 ,可用于表面改性,设计用于实验室和处理大型基板或大批量生产。 该机台还为等离子增强化学气相沉积应用提供了对应的功能。

PVA TePla 的 IoN 40 是一款功能齐全的桌式先进射频等离子机,可用于表面改性,为实验室和量产使用而设计,适用于处理较小的基板或中小产量。该机台还为等离子增强化学气相沉积应用提供了对应的功能。




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