PHI GENESIS 500 PHI X射线光电子能谱仪

简单易操作

PHI GENESIS 提供了一种全新的用户体验，仪器高性能、全自动化、简单易操作。 操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数，同时保留诸如进样照片导航和 SXI 二次电子影 像精准定位等功能。

简单友好的 用户界面

PHI GENESIS 提供了

一个简单、直观且易 于操作的用户界面， 对于操作人员非常友 好，操作人员执行简 单的设置操作即可完 成包括所有选配附件 在内的自动化分析。

多功能选配附件

原位的多功能自动化分析， 涵盖了从 LEIPS 测试导带到 HAXPES 芯能级激发 的全范围技术，相比于传统的 XPS 而言， PHI GENESIS 体现了好的性能价值。

全面的优良解决方案 :

高性能 XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多种其他 选配附件可以满足所有表面分析需求。

多数量样品大面积分析

- 多数量样品大面积分析

- 把制备好样品的样品托放进进样腔室后将自动传送进分析腔室内

- 可同时使用三个样品托

- 80mm×80mm 的大样品托可放置多数量样品

- 可分析粉末、粗糙表面、绝缘体、形状复杂等各种各样的样品

独1无2的可聚焦≤5μm 的微区 X 射线束斑

在 PHI GENESIS 中， 聚焦扫描 X 射线 源可以激发二次电子影像（SXI），利用 二次电子影像可以进行导航、精准定位、多点多区域同时分析测试以及 深度剖析。

大幅提升的二次电子影像 （SXI）

二次电子影像（SXI）精准定 位，保证了所见即所得。  5μmX 射线束斑为微区 XPS 分析应用提供了新的机遇。

快速深度剖析

PHI GENESIS 可实现高性能的深度剖析。聚焦 X 射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子枪和高效双束中和系 统可实现全自动深度剖析，包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析。

高性能的深度剖析能力

( 下图左 ) 全固态电池薄膜的深度剖析。深度剖面清晰地显示了在 2.0 μm 以下富 Li 界面的存在。 ( 下图右 ) 在 LiPON 膜沉积初期，可以看到氧从 LiCoO 2 层转移到 LiPON 层中，使 Co 在 LiCoO 2 层富 Li 界面由 氧化态还原为金属态。

角分辨 XPS 分析

PHI GENESIS XPS 的高灵敏度微区分析和高度可重

现的中和性能确保了对样品角分辨分析的性 能。另外，样品倾斜和样品旋转相结合，可同时实现角度的高分辨率和能量的高分辨率。

PHI GENESIS 多功能分析平台在各种研究领域的应用