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感应耦合电浆化学气相沉积设备

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化学气相沉积化学气相沉积设备价格等离子设备沉积系统供应化学气相沉积设备

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公司介绍主营产品

北京瑞科中仪科技有限公司专注半导体材料研究分析设备的研发和应用。专业的团队，专精的服务，提供理想的解决方案。

我们长期专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理，为高校、企业科研工作者提供专业的分析解决方案。以专业技能为导向，用科技来解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流，打消顾虑，彼此协作，为我国的科研领域谱写新篇章。

北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备，其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。

客户至上的服务理念，以人为本的企业文化，我们始终为用户提供专业的服务！

合作丨共赢，选择我们，选择未来！

 

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半导体材料分析,材料刻蚀

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应用领域 环保,化工,电子

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ICP-CVD 感应耦合电浆化学气相沉积设备（ICP-CVD）是一種使用ICP的化學氣相沉積技術，可為沉積反應提供一些能量。與PECVD方法相比，ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜而不會降低薄膜質量。因使用ICP做為電漿源，有電漿濃度較高、能量損耗較低、功率較大與反應速率較高等優點。

SYSKEY感应耦合电浆化学气相沉积设备的ICP-CVD可以精準的控制製程氣體與監控其數據(壓力、載台溫度)，並提供高品質的薄膜。

應用領域腔體

  • 奈米碳管與石墨烯製程。

  • SiOx、SiNx、a-Si、DLC和其他薄

    膜製程。

  • 二維材料。

  • 醫療和商業產品的耐磨薄膜。

  • 陽極電鍍處理鋁腔。

  • 通過使用水冷系統、加熱器或

    加熱包來控制腔體溫度。


配置和優點選件

  • 客製化的基板尺寸，最大直徑可達

    12寸晶圓。

  • 腔體壓力：50~10-3 Torr。

  • 精準流量控制器，氣體分佈高度均勻，最多可擴充10條氣體管線。

  • 穩定的溫度控制，將載盤加熱至700°C。

  • 使用Tornado ICP線圈，ICP電漿範

    圍為50W ~2000W，滿足客戶ICP-CVD製程需求。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手

    套箱整合在一起。

  • RPS用於腔體清潔。

  • 橢圓偏振光譜儀。

  • 發射光譜儀。

  • 高真空傳送系統。




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