連續式多腔磁控濺鍍設備

具体成交价以合同协议为准

产品标签

磁控濺鍍多腔磁控濺鍍設備連續式多腔磁控濺鍍設備供应連續式多腔磁控濺鍍設備

在线交流发送询价进入商铺同类产品

联系方式：汪经理13810961731 查看联系方式

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息，谢谢!

公司介绍 主营产品

北京瑞科中仪科技有限公司专注半导体材料研究分析设备的研发和应用。专业的团队，专精的服务，提供理想的解决方案。

我们长期专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理，为高校、企业科研工作者提供专业的分析解决方案。以专业技能为导向，用科技来解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流，打消顾虑，彼此协作，为我国的科研领域谱写新篇章。

北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备，其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。

客户至上的服务理念，以人为本的企业文化，我们始终为用户提供专业的服务！

合作丨共赢，选择我们，选择未来！

展开

半导体材料分析,材料刻蚀

应用领域	环保,化工,电子

連續式多腔磁控濺鍍設備 In-Line的濺鍍沉積是指基板在一個或多個濺鍍陰極下方以線性的方式通過以獲取其薄膜沉積。其基板沿著軌道穿過各個真空腔內。

連續式多腔磁控濺鍍設備其電漿產生器有許多種類並且每一種都可使用，例如射頻電源、直流電源或脈衝直流電源。還可以容納諸如濺鍍蝕刻、基板加熱或電漿清洗之類的可選步驟，並且具有完整的儀器和控制裝置可用於金屬導電薄膜、電介質、光學薄膜或其他濺鍍應用。

SYSKEY的In-Line濺鍍沉積可精確控制其濺鍍製程條件，從而為客戶提供優質的薄膜。

應用領域	腔體
奈米研究技術。產品質量控制和質量檢查。材料研究。太陽能電池。觸碰螢幕。 TFT-LCD。氧化物、氮化物和金屬材料的研究。	客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和其應用。具有顯示功能的全領域真空計和用於壓力控制的Baratron真空計。腔體的極限真空度約為10^-7Torr。
配置和優點	選件
客製化基板尺寸最大為1100 x 1300 mm²(玻璃)。優異的薄膜均勻度小於±5％。高沉積速率≥ 250nm/min和高效率陰極。濺鍍功率：射頻 5kW，直流或脈衝直流20kW。具有高均勻的氣體分佈的流量控制器。穩定的溫度控制，可將基板加熱到400°C。水平或垂直濺鍍。	基板載台回流線。自動傳送機構。 OES、RGA或製程監控的額外備用端口。