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上海伯东代理进口 KRI 霍尔离子源 eH200

具体成交价以合同协议为准

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机, 美国 Gel-Pak 芯片包装盒代理商 .我们真诚期待与您的合作!

 

 

质谱分析仪,氦质谱检漏仪,分子泵,离子源,真空阀门

供货周期 一个月以上
霍尔离子源 eH 200

KRI 霍尔离子源 eH 200
上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.

KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数:

型号

eH 200

供电

DC magnetic confinement

  - 电压

40-300V VDC

  - 离子源直径

~ 2 cm

  - 阳极结构

模块化

电源控制

eHx-3005A

配置

-

  - 阴极中和器

Filament or Hollow Cathode

  - 离子束发散角度

> 45° (hwhm)

  - 阳极

标准或 Grooved

  - 水冷

  - 底座

移动或快接法兰

  - 高度

2.0'

  - 直径

2.5'

  -加工材料

金属
电介质
半导体

  -工艺气体

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

  - 安装距离

6-24”

  - 自动控制

控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder

KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域:
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD




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