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上海伯东代理 KRI 考夫曼离子源 KDC 160

具体成交价以合同协议为准

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机, 美国 Gel-Pak 芯片包装盒代理商 .我们真诚期待与您的合作!

 

 

质谱分析仪,氦质谱检漏仪,分子泵,离子源,真空阀门

供货周期 一个月以上
KRI 考夫曼离子源 KDC 160

KRI 考夫曼离子源 KDC 160
上海伯东代理美国进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列大,离子能量强的栅极离子源, 适用于已知的所有离子源应用, 离子源 KDC 160 高输出设计,大电流超过 1000 mA. 无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计,标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.

KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数

型号

KDC 160

供电

DC magnetic confinement

 - 阴极灯丝

2

 - 阳极电压

0-100V DC

电子束

OptiBeam™

 - 栅极

专用, 自对准

 -栅极直径

16 cm

中和器

灯丝

电源控制

KSC 1212

配置

-

 - 阴极中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

 - 安装

移动或快速法兰

 - 高度

9.92'

 - 直径

9.1'

 - 离子束

聚焦
平行
散设

 -加工材料

金属
电介质
半导体

 -工艺气体

惰性
活性
混合

 -安装距离

8-45”

 - 自动控制

控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架

KRI 考夫曼离子源 KDC 160 应用领域
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE

若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生 




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