Large Area Pulsed 大尺寸脉冲激光沉积系统

产品简介

Neocera大尺寸PLD系统用于在各种衬底上沉积各种高质量的薄膜，晶圆（wafer）直径可达8 "(200毫米)。基片旋转结合激光扫描提供整个晶圆区域的厚度均匀性。激光束扫描附件采用了独\特的Neocera设计，当激光束扫描时，可以在目标上产生固定的激光通量(J/cm2)。当激光束通过目标表面扫描时，激光束扫描使用独\特的扫描程序。激光位置在目标上的停留时间遵循逆速度程序，促进了薄膜厚度的良好控制。用户可以*控制扫描参数的必要改变，厚度轮廓取决于沉积压力。

产品特点

•全自动大尺寸PLD系统

•晶圆尺寸:4 "(100毫米)，6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直径

•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积

•高温下氧化膜沉积的氧相容性

•自动激光扫描厚度均匀性

技术参数

1.衬底尺寸:(直径)4 " (100mm)，6 " (150mm)和8 " (200mn)

2.PLD腔室尺寸:18英寸直径球体或圆柱体。

3.衬底加热:850 ℃(4 "wafers))，750℃(6 "wafers)，700℃(8" wafers)

4.目标旋转: 直径4 × 2"

5.厚度均匀性: ±5%或更好。

6.工业气体: O₂, N₂, Ar， (MFC控制)

7.Loadlocks: 包括

8.自动化: Windows 7, LabView 2013