| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,能源,电子/电池 |
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实验室用快速退火炉
1、设备尺寸详情：
AS-0NE100：530*800*1425mm
2、型号介绍：
不锈钢水冷壁腔室壁真空快速退火炉(快速热处理炉)，具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 两种版本
3、性能和特征：
可处理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圆，可适用大范围类型的基片：硅和化合物半导体晶圆，GaN /蓝宝石和碳化硅晶圆，多晶硅晶圆，玻璃，金属，高分子聚合物，石墨和碳化硅托盘等等。
设备应用具有：硒化、硫化、接触退火，注入退火，RTO (快速热氧化) ，RTN (快速热氮化) ，硅平滑，扩散，致密化和结晶化，石墨烯CVD，碳纳米管等。
不锈钢水冷腔壁技术，高工艺复现性，超洁净及无污染环境
高冷却速率，低记忆效应
具有真空能力，可选配分子泵
温度控制：高温计和热电偶控制+快速数字PID温度控制器
边缘高温计视口，确保用于化合物半导体和小型样品
基片托的温度控制
实验室用快速退火炉
4、快速退火炉的具体参数
温度范围: 室温至1250°C(AS-One100)、室温至1450°C(AS-One100HT)、室温至1200°C(AS-One150)、室温至1300°C(AS-One150HT)、升温速率：可达200°C/s(AS-One100)，可达150°C/s(AS-One150)
特殊配置下冷却速率达 100°C/s(选配快速冷却装置)
可配5条带质量流量控制器(MFC)的工艺气路
标配一条吹扫气路
具有真空能力，配备干泵，可选配分子泵。
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化工仪器网