qirui RTP-1200快速退火炉
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 上海骐锐信息科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 qirui
- 产地 上海
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2020/10/31 15:31:40
- 访问次数 1546
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产地类别 | 进口 | 价格区间 | 面议 |
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应用领域 | 化工,能源,电子,印刷包装,电气 |
RTP-1200快速退火炉
该仪器:尺寸小巧,使用风冷、无须水冷,电流要求不高(3安培),性价比高,使用方便,非常适合科研院所的科研使用。
技术规格:
- 加热方式:红外卤素灯,600W;
- 红外灯数量:4支;
- 升温速率:100℃/秒;
- 降温速率:50秒(1000℃ → 400℃);
- 温度:1200℃;
- 温度精度:+/-0.3℃
- 大样品尺寸:15 x 20mm;
- 退火环境:真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢氮混合气等);
- 真空泵及极限压力:机械泵,10-3Torr水平(选配);
- 电压:220 V,单相;
- 仪器尺寸:400*300*450mm (W*D*H);
- 质量:净重30Kg;
RTP-1200快速退火炉
仪器特点:
- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;
- 温控精度高;
- 无须配置冷水机;
- 无须使用三相电,普通实验室单相电即可使用;
- 紧凑的台式设计;
- 仪器操作方便,样片装取容易;
- 适合高校或研究所科研使用;
- 价格合理,高性价比;
应用领域:
- 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing, RTA);
- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation, RTO);
- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation, RTN);
- 硅化 (Silicidation);
- 扩散 (Diffusion);
- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
- 离子注入后退火 (Implant Annealing);
- 电极合金化 (Contact Alloying);
- 晶体化和致密化 (Crystallization and Densification);
- 合金熔点分析;
- 薄膜沉积;
- 等等…