GM1010/GM1020/GM1075 EM Resist SU-8负性抗蚀剂

EM Resist SU-8负性抗蚀剂产品，非常适合半导体应用。我们的产品有各种形式和厚度范围。

产品                  膜厚范围            涂层选项

GM1010           <0.2微米           喷涂外套

GM1020           0.2-0.5微米      旋转，喷涂，喷墨

GM1030           0.5-1.2微米      旋转，喷涂，喷墨

GM1040           0.9-3.2微米      旋转，喷涂，喷墨

GM1050            3-8微米              旋转，喷墨

GM1060            2-27微米            旋转，喷墨

GM1070           15-200微米         旋转，喷墨

GM1075           100-400微米       旋转，喷墨

小订购量为250mL

SML Resist是一种高分辨率，高纵横比的正色调电子束抗蚀剂。EM Resist SU-8负性抗蚀剂具有出色的附着力和出色的抗干蚀刻性。SML可用于MEMS，波带片，光子学和许多其他纳米加工应用

SML电子束抗蚀剂的厚度范围从50nm到2μm，起始体积仅为50mL。

高性能SML电子束抗蚀剂是一种新型聚合物，专为满足EBL社区的需求而设计。即使在低加速电压下，也无需借助邻近效应校正，就可以同时将其图案化为高分辨率和高长宽比的图案。

SML抗蚀剂经过专门设计，可与标准PMMA工艺配合使用。无需更改化学或过程培训。

产品范围–厚度

SML50：40nm – 100nm

SML100：90nm – 210nm

SML300：250nm – 600nm

技术指标

高分辨率：<10nm

*的宽高比：

30 kV时> 10：1

> 50：1 @ 100 kV

厚度：50 nm – 2000 nm

PMMA抗蚀剂是用于电子束光刻的行业标准正性抗蚀剂。我们提供各种分子量和厚度的PMMA。

PMMA Resist是行业标准的电子束抗蚀剂，广泛用于学术界和工业，用于高分辨率功能和剥离应用。它也可以用于纳米压印应用以及其他晶圆厂和研发过程，例如石墨烯薄片转移。