L2002 Ossila紫外臭氧清洗机

紫外臭氧清洗机（UVO）

目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。

v 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。

v 表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。

主要应用：

• 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。

• 微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。

• 精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。

• 在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。

• 科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。

产品特点

• 成本低；

• 120x120mm样品台；

• 大处理样品高14mm；

• 抽屉式样品台，简单方便；

• 样品台自动安全开关,打开UV自动关闭，防止对人身伤害；    

• 
  

• UVO显示器

• LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”；

• 60分钟定时器；

• 高强度UV灯源；

• 可控温的样品台；

• 样品清洗无需溶剂；

• 超净表面。

UVO样品托盘

二、技术参数

在紫外线臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基质上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分钟后(右)。