NSC-1000磁控溅射系统
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 医疗卫生,化工,生物产业,电子,制药 |
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磁控溅射技术
NSC-1000磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达6"旋转平台，支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-1000带有10”派热克钟罩腔体，2个2”的磁控管，DC直流电源用于溅射金属，并带有膜厚监测仪(选配)。由于NSC-1000的空间有限，我们不能在NSC-1000系统上提供更多的电源和磁控管。我们可以提供我们的NSC-1000系统，用于SEM应用，也可以用于溅射金属到z大6”的晶圆片。
NSC-1000磁控溅射系统产品特点：
- 不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
- 70l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
- 1KW DC直流电源
- 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
- 带观察视窗的腔门易于上下载片
- 基于LabView软件的PC计算机控制
- 带密码保护功能的多级访问控制
- *的安全联锁功能
选配项：
- Thickness Monitor 膜厚监测
应用：
- SEM应用
- 溅射金属，可达6"的晶圆片
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化工仪器网