AS-ONE100/150 法国ANNEALSYS快速退火炉（RTP）

多用途快速退火炉设备，适用于硅，化合物半导体，光子学& MEMS

zui高温度到1500℃, 升温速率zui大200℃/s, 高真空性能，快速冷却选项

应用：•注入退火

•合金接触

•快速热氧化(RTO)

•快速热氮化 (RTN)

•从旋涂掺杂物扩散

•致密性和结晶化

硅化等工艺

基片类型：硅片、化合物半导体硅片、太阳能电池用的多晶硅片、玻璃基片、金属基片、石墨舟等。

主要特点：•配有无声风扇冷却的红外卤素管灯退火炉

•不锈钢冷壁腔室技术

•快速数字PID温度控制器

•热电偶和高温计控制

•大气和真空下工艺性能

•配有针阀的吹扫气路

•zui多5路工艺气路配有数字MFC控制器

配有以太网通讯的PC控制，用于快速数据记录

•可选涡轮分子泵和压力控制