箱式气氛热处理炉 返回列表页

专门配备实验室，解决产品工艺问题，欢迎您到现场体验设备热处理效果。

箱式气氛热处理炉适用范围：适用于各类大专院校实验室、科研院所、工矿企业化验室，电子，医药，玻璃，机械，建材，新材料开发，特种材料，耐火材料，供化学分析、物理测定，以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、钎焊、热处理等。

箱式气氛热处理炉技术参数：

可以分为低温、中温、高温三种加热形式，加热元件可分为电阻丝（1100℃以下使用）、硅碳棒（1400℃以下使用）、硅钼棒（1800℃以下使用）等。

采用双层壳体结构和PID程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封。

采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进出气口，可以预抽真空并能通氩气、氮气、氧气、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

主要功能和特点：

1、加热元件均匀的分布在圆形或方形氧化铝炉膛内，分布合理，温场均匀性好，可抽真空，真空度可达0.05mPa以下，并能通入多种保护气氛；

2、炉膛采用进口氧化铝多晶纤维材料，保温性能好，耐用，拉伸强度高，无杂球，纯度高，节能效果明显优于国内纤维材料；

3、1）、加热元件采用高电阻优质合金丝0Cr27Al7Mo2，发热温度可达1300℃；

2）、加热元件采用优质硅碳棒，发热温度可达1450℃；

3）、加热元件采用优质硅钼棒，发热温度可达1850℃；

4、炉门采用循环水冷系统，可有效保证整体的密封性；

5、可以预抽真空并能通氨分解气、氩气、氮气等气体，炉内设有充气超压防爆系统；

6、可以预设多条加热曲线，分配给不同的烧结材料，需要时直接调用，互不干扰，无需重复修改温度参数；

7、配置进口压力传感器，过压自动泄压保护，操作安全可靠；

8、预留了485转换接口，可通过我司软件，与计算机互联，可实现单台或者多台电炉远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能；

9、超温报警并断电，漏电保护，操作安全可靠。

产品型号                     XBQF系列

炉膛保温材料              高纯度氧化铝纤维

工作电源                    220V或380V

加热元件                    电阻丝、硅碳棒、硅钼棒

工作温度                    100～1650℃

额定功率                    按实际加热方式及加热区大小而定

控温方式                   30段可编程序智能数显仪表

升温速率                   1～20℃/min

控温精度                   ±1℃

测温元件                   K型、S型或B型热电偶

可选配件                  炉内测量系统（氧含量检测系统、温度检测系统）

真空系统（旋片式机械泵、扩散泵机组、分子泵机组

气氛系统（浮子流量计、质量流量计）

监控系统：（温度记录仪、触摸屏远程监控）

刚玉坩埚、石英坩埚和金属料架等

内部尺寸：

L100×W100×H100(mm )        L150×W100×H100(mm )

L200×W150×H150(mm )        L300×W200×H200(mm )

L400×W300×H300(mm )        L400×W400×H400(mm )

L500×W400×H400(mm )        L800×W400×H400(mm )

除以上尺寸还可根据客户工艺要求来订制。