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SPS(POLOS)旋涂仪技术参数及应用介绍

SPS（POLOS）SPIN150X-LNR是一款功能强大的旋涂仪，以下是对其技术参数及应用的详细介绍：

技术参数：

1. 旋转速度：该旋涂仪具有高达12000 RPM的旋转速度，这确保了涂层均匀且快速，满足各种实验和生产需求。

2. 旋转精度：这款旋涂仪具备高精度特性，可以精确控制旋转过程，确保涂层厚度和均匀性的高度一致性。

3. 最大加速度：它的加速度范围达到1~30000 RPM，使得旋涂过程可以迅速且平稳地进行，提高了工作效率。

4. 基片直径：该旋涂仪适用于直径为6"（约150mm）的基片，这使其能够处理较大面积的样品，满足多种应用需求。

5. 腔体直径：其腔体设计合理，直径为4" x 4"（约100mm），这为实验操作提供了足够的空间。

此外，该旋涂仪还具备一些硬件规格特点，如液体过滤捕集器、特别设计的外壳和排水口、中心注射支架、盖锁和真空传感器等，这些设计都确保了用户操作的安全性和便捷性。

应用介绍：

SPS（POLOS）SPIN150X-LNR旋涂仪具有广泛的应用领域，主要适用于MEMS、半导体、生命科学、光伏、微流控等领域的研发和小批量生产。它可以用于各种典型的旋转工艺，包括清洁、漂洗/干燥、涂层、显影、玻璃滑动和蚀刻等。此外，它还可以用于旋涂聚合物薄膜，如嵌段共聚物（BCP）、PDMS和PMMA，或作为低成本的溶胶-凝胶方法，例如旋涂ZnO薄膜。

总的来说，SPS（POLOS）SPIN150X-LNR旋涂仪是一款功能全面的旋涂设备，能够满足各种实验和生产需求，为科研工作者和生产商提供高效、可靠的解决方案。

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