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| 晶圆尺寸 | 8英寸 | 尺寸 | 500 mm（宽）x 920 mm（深）x 1501 mm（高） |
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| 反应室尺寸 | φ340mm |
产品简介
详细介绍
反应离子刻蚀机
SAMCO RIE-10NR
简介： RIE-10NR是一种新型的低成本、 高性能、全自动反应离子刻蚀系统， 能够满足非腐蚀性气体化学最KE刻 的工艺要求。 计算机化触摸屏为工艺配方编 程和存储提供了用户友好的界面。 该系统可以实现精确的侧壁轮 廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。 凭借其圆滑、紧凑的设计， RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。 应用: 硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、 砷化镓、钼、铂、聚酰亚胺等材料的 腐蚀失效分析中的选择性层腐蚀。 |  |
主要功能和优点：
1、加工至ø220 mm（ø3“x 5，ø4"x 3，ø8"x 1）。
2、高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式"操作。
3、自动压力控制，允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制，便于维护。
4、于Windows的用户界面，丰富的配方和内置的数据记录功能，是一个可靠和持久的系统，全球安装了400多个系统。
主要参数规格： | |
基板 | 220 mm（ø3“x 5，ø4"x 3，ø8"x 1） |
负载 | 开放式 |
上下电极 | ø240 mm |
射频功率 | 300瓦@13.56兆赫，自动匹配（500瓦为选项） 可切换射频供电电极（阳极/阴极模式）为选项 |
气体管道 | 内部2条MFC控制的气体管道（最多6条） |
泵 | 干泵（500升/分钟） |
操作系统 | 触摸屏操作（可选择基于Windows的用户界面）、配方管理 |
端点检测 | 光学发射光谱（OES）作为一种选择 |
尺寸 | 500 mm（宽）x 920 mm（深）x 1501 mm（高） |
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