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恭贺我公司成功开发桌面式真空电弧熔炼炉
阅读:1281 发布时间:2018-10-19恭贺我公司成功开发桌面式真空电弧熔炼炉,在我公司技术人员的长期不懈努力下,我公司终于成功研发了桌面式真空电弧熔炼炉,开启了电弧炉微小型的新时代。它具有以下突出特点:
1、采用高纯氩气保护,高熔炼温度可达3500℃
2、真空腔体小,可快速抽真空,快速充氩气,效率快及氩气消耗非常少
3、水冷铜电极可移动,可同时熔炼多个样品
4、水冷铜坩埚可方便拆卸
5、采用真空计测量真空,压力传感器和电磁阀保护炉内压力
6、采用超温保护和加装滤光玻璃保护眼睛
7、桌面式设计,占地空间小,特别节约实验空间和能源
- 小型实验电弧炉小型电弧炉小型实验电弧炉设备参数:
1·设备电源,AC220V 50HZ
2·设备功率:10kw
3·设备容量:0~20g
4·水冷铜模:标准铜模中带有一个12*φ25;5个4*φ8样品锅,另可根据客
户要求定制
5·真空吸铸:(选配)吸铸直径0~3mm