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红外金-平面反射炉该系列应用广泛,从碳纳米管生产系统到产线生系统;平面金反射炉可用于2~12英寸圆晶的退火炉和产品的烘干炉;
RTP快速退火炉已经成为半导体、铁电体以及镀膜行业的重要退火技术。但是目前,只有大型的、昂贵的生产设备才能完成快速热处理,这大大降低了研发工作的效率(尤其是小的...
高温快速热退火炉HT-RTA59HD高温快速退火系统可以在SiC等高熔点的材料快速加热到1800℃。
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