 |
迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
11
联系电话
|
迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
联系电话
| 参考价 | 面议 |
更新时间：2024-04-16 13:57:53浏览次数：1420
联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息，谢谢!
M-150
光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。M系列是用于光刻的掩模对准器。M-150专为6英寸晶圆设计，具有硬接触、软接触、真空接触三种接触方式。曝光器有一个350W的紫外线光源。365nm处的光功率为25mW/cm 。可用于商业半导体制造或大学实验室晶圆制造以及MEMS领域。
技术参数
类型 | PLC手动控制系统 | 波长 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大7英寸 | 紫外光强度 | 15 ~ 25/ ㎠ |
基片尺寸 | 6英寸 | 紫外线光束均匀度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ㎛ | 接触模式 | 真空/硬/软/接近 |
对准精度 | 1 ㎛ | 显微镜 | 双CCD变焦显微镜 |
紫外灯和电源 | 350W | 选配项 | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
P-150
光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。P-150专为6英寸晶圆设计，具有硬接触、软接触、真空接触三种接触方式。曝光器有一个350W的紫外线源。365nm处的光功率为25mW/cm 。可用于商业半导体制造或大学实验室晶圆制造以及MEMS领域。
技术参数
类型 | 触摸屏PC手动控制系统 | 波长 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大7x7英寸 | 紫外光强度 | 15 ~ 25/ ㎠ |
基片尺寸 | 6英寸 | 紫外线光束均匀度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ㎛ | 接触模式 | 真空/硬/软/接近 |
对准精度 | 1 ㎛ | 显微镜 | 双CCD变焦显微镜 |
紫外灯和电源 | 350W | 选配项 | IR BSA, CCD BSA |
