飞秒激光直写光刻系统 返回列表页

这款飞秒激光直写光刻系统,laser lithography system是专业为微纳结构光蚀刻而设计的激光直写光刻机。飞秒激光直写光刻系统基于多光子聚合技术（multi photon polymerization, mPP),适合市场上的各种光刻胶（photoresists），能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构,是的激光光刻机.

• 激光光刻机3D模型制备

• 直写光刻机直接激光刻划

• 激光光刻机整套系统到货即可使用

• 激光光刻机提供100nm-10um的分辨率

• 直写光刻机超小尺寸

飞秒激光直写光刻系统,laser lithography system制备

这套飞秒激光直写光刻系统,laser lithography system由激光微加工系统软件控制，简单的3D模型通过这种软件即可生成，对于比较复杂的3D模型，用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作，然后导入到三维光刻机的软件中，这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。
飞秒激光直写光刻系统,laser lithography system激光直接读写
这套激光光刻机由飞秒激光光源，精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先，待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成

• Nanophotonic devices (3D photonic crystals)激光光刻机用于纳米光子器件（三维光子晶体）
• Microfluidics 三维光刻机用于微流控芯片
• Microoptics (lenses, structures on an optical fiber tip, etc.)三维光刻机用于微光学（光学端面微结构制作）
• Micromechanics 激光光刻机制作机微机械
• Micro-Opto-Electromechanical Systems (MOEMS) 激光蚀刻机制作微型光机电系统
• Biomedicine 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学