2025年12月26日，全球高精度增材制造领导者Nanoscribe在中国上海正式启用其全新Quantum X微纳加工示范实验室。此次揭幕的Quantum X align系统，标志着该公司革命性的“对准式双光子光刻技术”首次在中国开放实践体验。活动汇聚产学研界权威专家，生动展现了Nanoscribe深耕中国市场的坚定承诺与创新布局。
 

　　当日，Nanoscribe上海子公司以专题研讨会的形式，为与会嘉宾呈现了一场技术盛宴。来自产业界与学术界的领军代表亲临现场，深度观摩全新投用的Quantum X align系统，并就微纳制造的前沿趋势与落地应用展开了热烈交流。这一重要里程碑不仅彰显了Nanoscribe在中国本土化服务的升级，更为国内精密制造领域的技术突破注入了国际领先的创新动能。
 

　　上海全新示范实验室的核心设备是Quantum X align高精度双光子光刻系统。该系统支持在光纤、芯片与晶圆表面实现自动化对准，为高分辨率三维微纳结构制造提供完整的解决方案，展现了纳米级增材制造技术的前沿突破。
 

 

　　深耕中国市场的战略里程碑
 

　　Nanoscribe 联合创始人兼首席执行官 Martin Hermatschweiler 通过线上形式从德国卡尔斯鲁厄总部发表致辞，强调了中国市场在 Nanoscribe 全球战略中的核心地位。他表示，“上海Quantum X示范实验室的落成，是我们持续赋能中国科技创新生态的重要举措。中国在光子集成、先进光学与精密制造领域的快速发展，与Nanoscribe以技术推动产业升级的愿景高度契合。”
 

　　他进一步强调：“通过将高通量双光子光刻系统引入本地，我们能够帮助客户显著缩短从研发到量产的周期，切实支撑‘实验室到产线’的技术转化，为中国前沿科技领域的高质量发展提供关键制造能力。”
 

 

　　以专有技术突破微制造边界​
 

　　Nanoscribe中国区总经理崔万银博士在技术报告中系统阐释了Quantum X align如何通过自主核心技术应对高精度微制造的挑战：
 

 

 

　　​技术研讨与与场景化演示
 

　　本次活动同时举办了微纳制造前沿技术研讨会。来自科研机构与产业界的专家围绕光子集成、智能超表面、X射线光学与AI辅助微纳设计等方向，分享了最新进展。
 

　　亚太区服务经理朱玉芳通过现场实机演示，呈现了Quantum X align在制备光学级表面(Ra ≤ 10 nm)与高形貌精度结构(Sa ≤ 200 nm)方面的稳定性能，验证了该系统在光通信、人工智能硬件与高端医疗器械等领域的应用成熟度。
 

 

　　上海Quantum X示范实验室正式启动​
 

　　实验室将面向客户与合作伙伴开放，提供专业的设备演示与定制化培训服务，助力用户深度评估设备加工能力与应用潜力。
 

　　Nanoscribe期待与产业链各界携手，通过微纳制造技术创新，共同推进光学、半导体、生物医疗等领域的设备研发与工艺突破，赋能中国高科技产业的自主发展路径。
 

　　关于 Nanoscribe​
 

　　Nanoscribe是高端微纳尺度增材制造的技术领导者与市场开拓者。公司专注于基于专利双光子聚合(2PP)技术的三维光刻系统、灰度直写设备及相关功能性材料，为科研与工业客户提供覆盖纳米至介观尺度的微制造完整解决方案。
 

　　公司成立于2007年，源自卡尔斯鲁厄理工学院，2024年12月成为Lab14集团成员。Nanoscribe在全球拥有超过150项专利，在德国、美国与中国设有分支机构，其系统已支持全球众多科研机构与企业用户取得技术突破，累计助力超过2100篇经同行评审的高水平研究成果发表。