KASHIYAMA日本樫山真空泵MUP1200E的特点
无油干式运行:采用无润滑油机械结构,避免了油蒸气对工艺环境的污染,特别适用于对洁净度要求场合,如半导体制造、液晶显示制造等。
抽气能力强:最大抽速可达 20,000L/min,能快速有效地抽取气体,可满足不同应用场景对真空度的需求。
极限真空度高:极限压力可达到 0.1Pa 甚至更低,能够提供高真空环境,满足如半导体工艺中一些对真空度要求严苛的工艺步骤。
氮气吹扫功能:支持氮气吹扫,氮气流量可在一定范围内调节,通常能在 0 至 60SLM 范围内,增强了工艺的灵活性,可用于一些需要对腔体进行吹扫或保护的工艺。
高效节能:通过优化机械结构和采用新型加热器系统等措施,实现了低功耗化,功率一般为 1.05kW 左右,相比一些传统真空泵能耗更低。
小型化设计:外形尺寸较为紧凑,例如 MUP1200E 的尺寸约为 820×380×655mm,机身小巧,节省安装空间,便于集成到各种设备或系统中。
冷却水需求低:冷却水流量仅需约 2L/min,对冷却系统的要求不高,可降低运行成本和设备复杂度。
安全可靠:符合工业安全标准,配备高安全性防护设计,如过载保护、过热保护等装置,能在各种工况下稳定运行,减少故障和意外发生的可能性。
产品兼容性好:支持与同系列设备协同工作,可扩展应用场景,能与其他型号的樫山真空泵或相关设备搭配使用,以满足不同规模和复杂程度的真空系统需求。
应用领域广泛:适用于化工、电子 / 电池、半导体制造、实验室等众多领域,可用于晶圆加工、蚀刻、镀膜等关键工艺的真空环境控制,以及高纯度实验环境及腐蚀性气体处理。
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