普泰克半导体冷却一体机产品介绍

宽温域调控：不同型号的设备温域范围有所不同，如有的可在 - 110℃至 + 300℃、-45℃至 250℃或 - 60℃至 250℃等宽温域内实现快速升降温和动态恒温235。

高精度控温：一般采用 PID 动态调节等智能温控算法，能够实时监测进出料口温度，控温精度可达 ±0.1℃，甚至更高2。

全密闭循环系统：导热介质（如硅油、乙二醇等）在封闭管路中循环，膨胀容器隔绝空气，避免氧化和吸湿，可确保高温无油雾、低温不结露2。

高效热交换设计：例如采用板式换热器提升传热效率，减少介质用量；盘管式加热器可快速响应温度变化，升温速率可达 10℃/min2。

多重安全保护：具备超温报警、固态继电器断电保护、压力传感器联动停机、逆缺相保护、加热异常警报、缺油警报等功能，确保设备安全稳定运行2。

晶圆制造：在光刻工艺中，维持光刻胶温度稳定，防止光学元件热变形；在蚀刻工艺中，动态调节反应腔温度，优化刻蚀速率均匀性4。

封装测试：在探针台测试时，保持晶圆测试环境恒温，提升电性参数一致性；在芯片老化环节，模拟高温 / 低温环境，验证芯片长期可靠性4。

提高生产质量：精准的温度控制可有效避免因温度不稳定而导致的芯片缺陷，提升芯片良品率，例如在光刻、蚀刻等核心工序中，能将温度波动控制在极小范围内，确保晶圆微观结构不受影响3。

提升生产效率：快速的升降温能力和稳定的温度控制，有助于缩短工艺时间，提高生产效率，如在不同工序间快速切换温度，满足工艺的连续性与稳定性需求3。

降低维护成本：一些设备采用创新的模块化设计，便于维护与扩展。出现故障时，技术人员可快速定位并更换相应模块，缩短维护时间和成本