在半导体、微电子、光学、显示、新能源、汽车、航空航天等行业,薄膜厚度测量都起着关键作用。如:芯片制造中的光刻胶和介电层、MEMS器件的功能薄膜、光伏电池的减反射膜、钙钛矿太阳能电池的功能层等等。
各行各业测量薄膜厚度的目的是:质量控制、成本控制以及技术研发,避免因薄膜厚度影响产品的功能性与安全性,精确到纳米级把控降本空间,突破技术研发瓶颈。
那么怎么选择合适的膜厚仪呢?今天,小优博士为大家提供选择技巧!
膜厚仪-按测量原理分类
1、光谱反射/光干涉法
原理:通过分析薄膜表面与基底反射光的干涉现象,结合光谱反射率以及折射率计算厚度。如:优可测薄膜厚度测量仪AF系列。
适用场景:半导体光刻胶、液晶显示膜、光学镀膜、量子点等透明/半透明薄膜,厚度范围覆盖1nm至250μm。
Atometrics薄膜厚度测量仪AF系列
理论上来说,只有透明/半透明材料制成的薄膜才可被光波穿透,从而可用光干涉原理的膜厚仪来进行测量。但是一些不透光材料,如金属,在某种情况下也能测量:当金属膜仅有几百纳米甚至是几纳米薄的情况下,也能被部分光波穿透,这时就能精确测量出膜的厚度。
Atometrics薄膜厚度测量仪AF系列
2、磁性测厚法
原理:通过测量磁性基体上非磁性涂层引起的磁阻变化来确定厚度。
适用场景:导磁金属基材上的非导磁涂层,如钢结构防腐层、汽车喷涂等。
3、涡流测厚法
原理:利用高频交变电流在线圈中产生电磁场,导电金属基体上的非导电涂层会改变涡流反馈信号,从而计算厚度。
适用场景:导电金属基材的非导电涂层,如航空航天器表面、铝制品氧化膜等。
4、荧光X射线法
原理:通过X射线激发材料释放荧光,分析荧光能量和强度来测定镀层成分及厚度。
适用场景:多层镀层或复杂成分涂层的无损检测,如电子元件镀层、合金材料等。
5、超声波测厚法
原理:利用超声波在涂层与基体界面反射的时间差计算厚度。
适用场景:多层涂镀层或磁性/涡流法无法测量的场合,但国内应用较少。
6、电解测厚法
原理:通过电解溶解涂层,根据电流消耗计算厚度,属于破坏性检测。
适用场景:实验室中对精度要求不高的涂层分析。
7、放射测厚法
原理:利用放射性同位素发射的粒子穿透涂层后的衰减程度测量厚度。
适用场景:特殊工业环境(如高温、高压),但成本高昂。
膜厚仪-按薄膜厚度量级分类
1、纳米级(1nm–100nm)
测量技术:光谱椭偏仪、高精度分光干涉膜厚仪(如Atometrics AF-3000系列)、白光干涉法(如Atometrics AM系列)。
应用:半导体薄膜(如氮化硅、光刻胶)、钙钛矿、量子点等。
Atometrics白光干涉仪AM系列
2、亚微米级(100nm–1μm)
测量技术:高精度分光干涉膜厚仪(如Atometrics AF-3000系列)、白光干涉仪(如Atometrics AM系列)。
应用:光学镀膜、MEMS器件薄膜等。
Atometrics薄膜厚度测量仪AF系列
3、微米级(1μm–100μm)
测量技术:磁性法、涡流法、高精度分光干涉膜厚仪(如Atometrics AF-3000系列)。
应用:工业防腐涂层、印刷电路板镀层等。
Atometrics薄膜厚度测量仪AF系列
4、毫米级(>100μm)
测量技术:超声波法、高精度分光干涉膜厚仪(如Atometrics AF-3000系列)、光谱共焦技术(如Atometrics AP-5000系列)。
应用:厚膜涂层、复合材料等。
Atometrics光谱共焦位移传感器AP系列
综合上述两种考虑层面:测量原理与厚度量级,可以极大缩小适合待测薄膜的测量产品范围。然后结合测量效果、精度要求、测量效率与仪器成本等各方面,即可选定最合适的薄膜厚度测量方式。
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