SMC新推出一款化学液用气控阀 JLV系列,该产品通过创新结构设计,大大降低阀关闭时的冲击,从而有效的抑制了微粒的产生。阀主体采用高纯PFA材质,对应高工作压力及背压,兼具结构紧凑、省空间的特点,适用于涂胶显影、CMP、清洗、湿法蚀刻、药液供给等Wet相关各个工艺环节,特别是28nm以下对微粒要求更加严格的工艺制程。
SMC气控阀 JLV系列应用案例:蚀刻装置
CMP
涂胶显影机
清洗机
抑制微尘的产生
优化先导排气,降低阀关闭时的冲击力。
采用耐化学品性的材质
减少安装空间
对应高压/高背压
使用压力、背压范围扩大,共通化。使用压力:0~0.5MPa(与以前产品相比最大提高66%)※主体class3的场合背压:0~0.5MPa(与以前产品相比最大提高150%)
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