TK-100露点仪在半导体芯片生产车间的运用

TK-100露点仪在半导体芯片生产车间的运用

露点仪在半导体芯片的生产工艺中起重要监测作用。半导体芯片的生产是在

净化间内进行的。净化间规范往往包括相对湿度（RH）这一项，一年内控制点的范围从35%到65%，精度2%（70℃以下）湿度超标会影响产品质量及生产计划的完成。

        在半导体芯片生产区，湿度不稳定，会出现很多问题。最典型的问题是烘干期延长，整个处理过程变得难以控制。当相对湿度高于35%时，元件易被腐蚀。此外，将显影液喷在芯片表面时，显影液迅速挥发，使芯片表面温度下降，致使水汽凝结在芯片表面。凝结水不但会影响显影特性，还会吸收到半导体内，这将导致膨化及其它质量缺陷，还必须增加一些不必要的工艺控制。

        净化间常用的除湿方法有两种。一种是调节空气，另一种是除湿剂。采用第一种方法时，将与净化间气流接触的表面的温度降至气流露点以下。除去析出的冷凝水，将除湿后的空气加热至规定温度后，重新送回净化间。标准冷冻机可保证露点达到+4℃；采用第二种方法时，气流通过吸湿剂，吸湿剂直接吸收气流中的水分，然后将除湿后的空气送回净化间。吸湿剂除湿法可使露点低于-18℃。

特征

• 国内开发、国内制造、国内校准

• 露点测量范围-100至+20℃dp

• 精度±2℃dp

• 高响应速度

• 有竞争力的定价体系

• 交货快捷

• 完善的支持体系

• 可追溯至国家标准

主要用途

• 手套箱内的露点控制

• 干燥机露点检查

• 热处理炉内气氛控制

• 洁净室和干燥室的露点管理

• 气体纯度控制

• 天然气水分管理

• 半导体制造设备

• 有机EL制造

高品质国产露点仪

实现易于安装的价格范围