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真空蒸镀装置VE-2013的特点
VE-2013是一款简单的真空蒸镀装置，继承了VE-2030（我公司制造）的概念。外壳内置TMP，实现紧凑外壳。由于是台式机，所以不会占用太多空间。RP 放置在地板上。
我们使用紧凑的 TMP+RP 排气系统以低廉的价格提供清洁、高真空的蒸发系统。它消除了复杂的排气操作，只需触摸面板开关的ON/OFF控制即可实现全自动。
使用钨篮可以沉积金、铝、铬、银等。碳蒸镀采用夹具蒸镀枪型，使用特殊碳（ SLC-30 ）进行蒸镀。（不能使用φ5mm碳棒。）
购买时，您可以选择碳气相沉积电极或金属气相沉积电极。可以选择购买额外的电极。
碳蒸发电极
这是专用的碳蒸发电极。
它可以在高真空区域进行碳蒸发，从而可以形成具有优异膜质量和膜强度的碳膜。
附带的防尘盖将碳蒸气沉积的散射范围降至必要的低限度，从而减轻了清洁的负担。
使用特种碳（SLC-30）作为积碳源。
这是专用的碳蒸发电极。
它可以在高真空区域进行碳蒸发，从而可以形成具有优异膜质量和膜强度的碳膜。
附带的防尘盖将碳蒸气沉积的散射范围降至必要的低限度，从而减轻了清洁的负担。
使用特种碳（SLC-30）作为积碳源。
金属蒸镀电极
这是直径0.5mm钨篮专用的金属蒸镀电极。
可以轻松简便地进行金、铝、铬等的气相沉积。随附的防尘盖可最大限度地减少沉积区域并减轻清洁负担。
这是直径0.5mm钨篮专用的金属蒸镀电极。
可以轻松简便地进行金、铝、铬等的气相沉积。随附的防尘盖可最大限度地减少沉积区域并减轻清洁负担。
主要产品规格
| 物品 | 规格 |
| 电源 | AC100V（单相100V15A） |
| 设备尺寸 | 宽428mm，深430mm，高550mm （设备重量38kg） |
| 旋转泵（外部） | 抽速50ℓ/min (G-50DA) (重量11kg) |
| 涡轮泵（内置装置） | 排气速度67ℓ/秒 |
| 样品台 | 直径72毫米 |
| 气相沉积源-样品台距离 | 可调范围：0mm 至 140mm |
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