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赛默飞 Helios 5 聚焦离子束扫描电子显微镜可以利用纳米级分辨率实现快速3D表征毫米尺度材料
聚焦离子束扫描电子显微镜（Focused Ion Beam-Scanning Electron Microscope，简称FIB-SEM）是一种复合分析仪器，它结合了聚焦离子束（FIB）和扫描电子显微镜（SEM）的功能。
赛默飞 Helios 5 聚焦离子束扫描电子显微镜可以利用纳米级分辨率实现快速3D表征毫米尺度材料。
赛默飞 Helios 5 聚焦离子束扫描电子显微镜可以利用纳米级分辨率实现快速3D表征毫米尺度材料。
1、它集成了SEM镜筒（用于超高分辨率成像和先进的分析能力）、等离子FIB镜筒（可在所有操作条件下实现最佳性能）以及飞秒激光，可实现以从前无法通过商业化产品获得的速率进行原位材料刻蚀。
2、它加快了学术和工业用户的研究步伐，使他们能够在几分钟之内完成材料的表征，而之前需要花费的几天的时间。研究人员不仅可以针对定点的毫米大小的截面在纳米级分辨率下快速、准确地成像且更具有统计意义，还可以设置大体积的3D分析，使其在一夜之间自动完成，从而使显微镜空出时间来用于其他用途。
3、它使研究人员可以获得准确的大体积3D和次表面数据，其速度比典型的镓离子源聚焦离子束（Ga-FIB）快15,000倍。对于许多材料，聚焦离子束扫描电子显微镜可以在不到5分钟的时间内刻蚀数百微米的大截面。借助激光和等离子FIB的组合，现在可以进行连续截面层析成像，并且当与EDS和EBSD检测器结合使用时，可以扩展到毫米级的3D元素和晶粒取向分析。
4、它使学术和工业实验室可以轻松处理具有挑战性的非导电，对空气敏感和对离子束敏感的材料。他们还可以加快故障分析的速度，同时可以快速访问传统FIB通常无法访问的埋没的下层。FIB-SEM可用于分析各种材料，包括金属，电池，玻璃，陶瓷，涂层，聚合物，生物材料和石墨。
5、它快速，简便，精确的高质量样品制备，适用于扫描透射电子显微镜（S / TEM）和原子探针层析技术（APT）。
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