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台式离子研磨抛光仪 SEMPrep2 作为新一代的高精密氩离子研磨系统，可以满足研究人员苛刻的研磨需求。集成式多功能截面抛削以及无损平面抛光系统，为 SEM 以及 EBSD 用户提供好的制样助力。
台式离子研磨抛光仪的研磨系统主要由以下几个部分组成：
1.研磨盘：研磨盘是台式离子研磨抛光仪的核心部件，通常由金属材料制成，表面具有一定的粗糙度。研磨盘上可以安装研磨纸或研磨布，用于进行研磨和抛光操作。
2.研磨液供给系统：研磨液供给系统用于提供研磨液，研磨液通常由水和研磨剂混合而成。研磨液的作用是冷却研磨盘和样品，同时还可以起到清洁和润滑的作用。
3.研磨头：研磨头是连接研磨盘和样品的部件，通常由金属材料制成。研磨头可以调节研磨盘和样品之间的接触力和研磨速度，以达到不同研磨要求。
4.控制系统：控制系统用于控制研磨盘和样品的运动，包括研磨盘的转速、样品的旋转和移动等。控制系统还可以设置研磨时间和研磨力度等参数，以满足不同的研磨需求。
5.真空系统：真空系统用于在研磨过程中排除空气，以减少样品表面的氧化和污染。真空系统通常包括真空泵和真空室，可以通过控制真空度来调节研磨过程中的气氛。
6.监测系统：监测系统用于监测研磨过程中的参数，如研磨力度、研磨速度、研磨温度等。监测系统可以通过传感器和仪器来实现，可以实时监测和记录研磨过程中的数据。
以上就是台式离子研磨抛光仪的研磨系统的主要组成部分，不同厂家和型号的仪器可能会有所差异，但基本原理和功能是相似的。
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