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紫外臭氧清洗机用于键合表面活化等试验，样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，位置可锁定。
紫外臭氧清洗机是通过有机化合物的光敏氧化作用去除附着在工件表面的有机物质，经过紫外臭氧清洗机清洗后的工件表面可达到原子级清洁度。通过高于绝大多数有机物结合能量的紫外光线，发出波长为185nm和254nm的紫外线，空气中的氧分子吸收紫外光后，会产生臭氧，臭氧可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有较强的氧化性，可切断碳氢化合键，生成水和二氧化碳等可挥发气体，从而去除工件表面的污染物。
工作条件：
工作环境温度：5-35℃。
工作环境湿度：≤70%。
该设备在处理ITO,FTO，光学玻璃，半导体，硅片，金属，陶瓷，聚合物等基片表面的有机物，可以提高基片表面附着力或者改善表面亲水性，在衬底涂层或者镀膜，基片键合等方面有广泛应用。
本公司提供的CIF UVO13紫外臭氧清洗机具有自动补偿功能，自动恒定光强光密度，不会因为低压汞灯老化光强衰减影响清洗效果。数字倒计时显示清洗时间，1-999分钟之间可自行设置清洗时间。自动记录之前清洗参数设置。可随时手动中断处理过程。
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