半导体开发/制造及无尘室用露点仪的特点
在半导体开发/制造过程中,去除颗粒、水分和氧气等干扰因素是一个主要问题。我们的露点计、温湿度计和氧浓度计用于半导体制造、运输和检查等各种过程,以确认消除干扰。也用于除湿空气(干燥空气)的除湿和氮气、氩气、氦气、氢气等的气体纯度测量和管理。相反,一些过程需要高水分含量,在这个过程中进行露点测量以保持水分含量恒定。主要使用以下产品。
水分测量
(1) 将水分含量控制在极小量(ppb 至 1 位数 ppm)的过程
⇒ TK-100 电容式露点计(氧化铝型),可测量低露点 -100° C (
2) 微量水分 (ppm) 由
⇒ TE-660 露点仪(聚合物型)低露点为 -60°
C的过程控制
。(镜面型)露点仪
④ 过程和无尘室需要相对湿度水平控制的
⇒ 简单的 EE060
⑤ 需要大量水分并需要控制恒定水分的过程
⇒ 主要在高温和高湿度下测量 EE33 带防结露措施的温湿度计
氧气浓度测量
(1) 需要通过氢气置换等去除氧气的工序
⇒ 2001LC 原电池式氧气浓度计可以确认 1 ppm
以下
. 4100 型氧化锆氧气分析仪
风速计
(1) 洁净室和制造设备中气流很重要的过程
⇒ 能够测量微风的风速计
主要产品
TK-100
在线露点仪
技术测量畅销书
TE-660
露点变送器
聚合物露点仪
MBW373
最高精度
型号201/2001LC
低价机型
EE33
适用于高湿度和恶劣环境的温湿度计
EE060/061
低价型
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