如何解决半导体圆晶生产过程中清洁效果不一致出现的问题
半导体间歇式清洗设备清洗液成分配比不稳定,清洗效果不一致。
我在半导体晶圆制造现场,但我在清洁过程中遇到了一些问题。
在批量清洗中,有些成分会蒸发,尤其是在液体达到高温的情况下。
但由于是液体,易蒸发,易起泡,普通的计量泵会造成气锁。
它还要求定量、清洁和耐腐蚀。
我们推荐具有高分配性能并且每次注射能够注入少量 1 mL 的 CFD 型泵。
在这种情况下,我们推荐每次注射可注入少量 1 mL 的“CFD 型泵”。
CFD 型泵具有气泡容易排出的结构,因此气泡不会留在泵内。
此外,接液部采用氟树脂制成,是一款清洁度高、耐腐蚀的泵。此外,CFD-1T-B 型号具有 1 mL/shot 的出色分辨率,适合保持化学溶液的成分比恒定。基于以上原因,我们认为“CFD型泵”可以解决半导体间歇式清洗设备的清洗液问题。请考虑这个机会。
1 mL 1 shot,高精度控制晶圆清洗液浓度化学品补给泵CFD
• 所有接液部件均由氟树脂制成,与酸、碱、氢等化学品兼容
• 行程长度可轻松调节,每次最多可排放2.7 mL
• 泄漏传感器是标准配置 设备
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