microphase石墨烯合成装置MPCVD-50介绍

来源：秋山科技（东莞）有限公司 2022年09月07日 17:46

microphase石墨烯合成装置MPCVD-50介绍

用于碳纳米管的合成、碳成膜、纳米陶瓷成膜、氮化、硫属化物成膜等。

目的：	用于合成碳纳米管、在粉末样品上沉积碳膜以及各种 CVD 膜沉积的通用管式炉型热 CVD 设备。通过增加氨气、各种CVD反应气体、升华固体前驱体、液体前驱体的引入单元，可应用于氮化、硫属化物（二硫化钼MoS2等）层状材料沉积等。
特征：	配备液体燃料（乙醇）引入系统，可用于无法安装烃类气体的场所。　3系统质量流量气体流量控制系统，可以进行精确的气体控制。　真空排气系统是标准设备，可用作真空炉或气氛炉。　紧凑而坚固的外壳设计，易于安装在桌面实验室工作台上。　高度可扩展且易于处理任何类型的处理。

LIB电池用Si负极材料上的碳涂层

二硫化钼薄膜

长 CNT/Si 的 SEM 图像

粉末状 CNT 的 SEM 图像

主要规格

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