XRF荧光膜厚仪镀层测厚仪EDX8000B在金属镀层定性和定量分析中的应用‍

X射线荧光光谱(XRF)镀层测厚仪EDX8000B广泛应用于在镀层中的定性和定量分析。我们对检测步骤进行了测量和优化.该方法采用每个元素*的特征X射线来确定是否沉积上某种元素;利用FP法快速测定一组在不同浓度的电解液中电沉积所得镀层中的铜元素含量,结果表明该方法可以快速测定镀层中元素含量的变化,该方法具有测试准,投入少,易掌握,速度快等特点

X-RAY测厚仪EDX8000B的基本原理

X射线广泛用于各种无损检测。 除了常见的穿透检查外，还可以通过激发元素的特性产生荧光来进行元素分析。 了解如何通过X射线荧光的特性进行元素分析，请参考XRF(X-ray Fluorescence)原理介绍。

X射线荧光辐射(XRF)的应用，除了简单的元素定性和定量分析外，还可以通过该技术进行涂层厚度分析。 X 射线激发传输回金属涂层的信号量，以区分涂层的厚度。 如下例所示，在铜(Cu)基板上镀锡(Sn)，根据两个信号的关系计算镀锡的厚度。

常用膜厚分析方法比较

X射线薄膜厚度分析技术可以测量多层材料的厚度。 但是，这种分析很可能受到多层材料阴影的影响，无法看到基板元素的信号，也无法确定X射线是否已经穿透了所有涂层。

以铜上常见的镀镍和镀金为例，中间镀层的部分镍会被顶层的镀金层屏蔽，导致信号(计数)变小。 铜基板的特征光信号无法穿透镀层。 得到信号。 在这种情况下，如何确认X射线光源是否真的穿透了涂层，而不是仅测量一部分涂层厚度？

下表是常见金属镀层测厚仪能够穿透厚度列表