近期，聚光科技的半导体专用ICP-MS（电感耦合等离子体质谱仪）已实现销售，同时部分产品（科学仪器）正在集成电路制造头部企业测试中，尚未正式签署合同；值得注意的是，公司研发的ICP-MS等质谱仪属于美国商务部对实体名单企业进行出口管制的设备。

公司于2015年分拆自身质谱业务成立子公司谱育科技。谱育科技已掌握多个质谱分析技术平台，针对半导体行业检测需求，推出一系列高精度检测仪器及在线监测系统，助力行业突破“卡脖子”关键技术。

半导体产品制造过程分为晶圆加工、氧化、光刻、刻蚀等八大步骤，涉及硅片、电子气体、光掩模、光刻胶配套化学品等多类制造材料。统计数据显示，半导体元件制造业中约50%的产率损失是由产品及材料制造流程中的微量杂质污染导致。

ITRS（国际半导体技术线路图）提出，在超纯水、电子化学品、电子特气、晶圆制造环境等各个环节，均需进行严格的环境污染管控及污染物检测；如何将污染降低到最小是半导体制程过程提升良率的难点。半导体器件生产过程中涉及的化学品种类繁多、测试元素种类众多且检测精度要求ppt量级，都对设备性能及操作人员的污染控制技术提出苛刻要求。另外，随着半导体器件的尺寸不断缩小、芯片中元件的密度不断增加，生产过程中的污染控制也愈发严格。

ICP-MS技术尤其四极杆型ICP-MS技术具备极低的检测限和快速多元素测定功能，已逐渐成为半导体行业污染分析实验室的标准技术，在硅片表面杂质分析、超纯水、超纯试剂分析、高纯气体分析等多个方面应用广泛。目前，半导体行业所使用的ICP-MS基本被美国及日本厂商垄断。

谱育科技深耕科学仪器创新，在质谱领域积累了离子阱、四极杆、三重四极杆、飞行时间等多个质谱分析技术平台。公司已建立半导体洁净实验室（100级），在2021年相继推出了冷模式ICPMS以及三重四极杆ICPMS/MS,两款设备可以实现亚ppt级别的超痕量金属检测，打破了海外厂商对超痕量金属测试设备的垄断。此外，公司针对14nm、28nm等制程半导体企业开发的实时监测系统得到了各级集成电路基金的支持，其中一部分产品已经完成研发，处于样板点建立阶段。

基于谱育科技的研发实力，聚光科技于2020年成立半导体事业部，整合自身质谱、光谱、色谱等高精密检测分析技术，以及各类进样技术和软件算法等综合能力，推出一系列解决方案，覆盖了痕量/超痕量金属污染检测、洁净室AMC在线监测、蚀刻剂近红外分析、特气监测与预警等半导体全产业链精密检测分析领域。