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传统光刻工艺与Nanoscribe高速灰度光刻技术对比
在计算成像领域中有一个重要的分支，即光场成像。而光场成像中的核心光学元件，即为微透镜阵列。其材质为透明玻璃，表面刻有很多微小的透镜，组成阵列结构，用来成像。目前比较成熟的制作石英微透镜的工艺是光刻胶制作图形配合刻蚀的方法，但该方法存在着各种各样的问题。
常用的光刻胶制作图形配合刻蚀的方法在透镜的设计时需通过掩膜板图形确定，无法自由调节，且成本高，周期长。
不仅如此，由于光刻工艺是制作二维图形的工艺，对于制作的透镜的三维形貌无法直接控制。成像的分辨率极大地受到限制。同时，通过加热控制的透镜阵列的均匀性也无法保证，成品率和重复率都会受到影响。
传统工艺对于光刻胶的要求很高（需对紫外光光敏、加热成拱形、能对抗氩离子刻蚀等），只有特殊的光刻胶才能同时满足这些需求，严重限制了光刻胶选择范围。
Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统技术要点
这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到准同步，这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小，并在不影响速度的情况下，使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的性能与双光子聚合的jing确性和灵活性*结合，使其同时具备高速打印，*设计自由度和超高精度的特点。从而满足了复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的*要求。
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