产品推荐:气相|液相|光谱|质谱|电化学|元素分析|水分测定仪|样品前处理|试验机|培养箱


化工仪器网>技术中心>仪器文献>正文

欢迎联系我

有什么可以帮您? 在线咨询

用于半导体晶片检测的日本非接触式厚度测量仪 OZUMA CL

来源:秋山科技(东莞)有限公司   2021年06月04日 11:11  

用于半导体晶片检测的日本非接触式厚度测量仪 OZUMA CL

 

半导体晶片(Si硅晶片、GaAs、砷化镓Ga)、砷(As)、玻璃、金属等。它是OZUMA CL 非接触式厚度测量装置用于半导体晶片(Si 硅晶片、GaAs、镓 (Ga) 砷 (As))背面抛光工艺或每个制造工艺中的厚度(厚度)控制。可用于晶圆(厚度)控制的非接触式测量。 

分辨率为 0.01 μm。

由于是激光非接触方式 ,因此无需担心探针等划伤被测物体。由于是非接触式,因此可以对同一被测物进行厚度(厚度)、翘曲度、平行度等重复测量。由于激光传感头上下相对放置,因此可以准确测量厚度,而不受被测物体“滑行”引起的抬升的影响。

除了气压,我们还制造油压、水压等单元,各种定制测量仪器(空气、激光、光谱干涉仪、图像等)和试验机(振动、冲击、耐久性等)。 . 如果您想自动化人们目前正在做的工作,我们也期待收到您的来信。

免责声明

  • 凡本网注明“来源:化工仪器网”的所有作品,均为浙江兴旺宝明通网络有限公司-化工仪器网合法拥有版权或有权使用的作品,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的,应在授权范围内使用,并注明“来源:化工仪器网”。违反上述声明者,本网将追究其相关法律责任。
  • 本网转载并注明自其他来源(非化工仪器网)的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品第一来源,并自负版权等法律责任。
  • 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起一周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。
企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618