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微光刻处理技术引入3D打印

来源:纳糯三维科技(上海)有限公司Nanoscribe   2021年03月19日 08:51  
   在半导体芯片领域,光刻系统的分辨率比目前3D打印系统的分辨率至少高三~四个量级。如何将光刻技术的高分辨率特点应用于3D打印,在提高精度的同时支持微结构的大面积打印?如何降低对材料特性依赖,提升3D打印保真度和可靠性,适应多材料使用,这就是该项目创新的重要意义。将微光刻技术、精密涂层工艺和大数据处理技术引入3D打印,实现了微纳3D打印的三大创新。
  首先,提出了柔性薄膜送胶与涂层工艺相结合,常规胶层厚度1微米-10微米,理论上,胶厚可控制到亚微米。薄膜送胶的特点是每层打印的图形独立曝光,层与层间的曝光互不影响,根本上消除了传统光固化3D打印累积曝光对结构展宽的影响,实现了高深宽比、密集微结构的高保真3D打印。
  第二,提出了将缩微投影光学系统、大数据设计处理与3D分层曝光技术相结合,常规图形分辨率0.5微米-2微米,理论上,可做达0.2微米。采用空间光调制、大数据压缩与扫描拼接曝光技术,攻克了高分辨率图形大面积打印的难题,从而,实现了3D打印的高精度与大面积的协同。
  第三,提出了多喷头供胶模式,控制打印涂层厚度及组合,在逐层打印时,提供不同特性、不同成分的打印材料,降低了对材料特性的依赖,实现多全新功能材料3D打印,材料消耗和价格大幅下降。
        德国Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博会展LASERWorldofPhotonics上发布了全新工业级双光子灰度光刻微纳打印系统QuantumX,并荣获创新奖。该系统是世界first基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的精密加工微纳米打印系统,可应用于折射和衍射微光学。
 

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