micro-epsilo工业标准光谱共焦传感器控制器lDT 242x
micro-epsilo工业标准光谱共焦传感器控制器lDT 242x
→ 适合于高速、高分辨率测量位移和距离 | → 纳米级分辨率 |
→ 特别适合自动化行业和生产控制 | → 工业级控制器,出色的信噪比 |
→ 几乎不受被测物表面反光特性的影响 | → 探头不含主动电子元件 |
→ 极小的稳定测量光斑 | → 优势:适合工业化大批量检测需要 |
实际应用中各种被测表面的高精度位移和距离测量
源于光谱共焦测量原理,用户可以实现超高精度位移和距离测量--同时适用于漫反射和镜面被测物。超小的测量光斑可以识别微小的几何尺寸和结构。同轴测量光路避免了阴影遮挡带来的问题,使光谱共焦位移传感器可以用于窄缝和深孔。采用90°出光版本光谱共焦传感器,客户可以测量深孔或凹槽内壁几何尺寸。
透明物体单侧厚度测量
源于光谱共焦测量原理,用户可以从一侧测量透明物体的厚度。仅用一支光谱共焦位移传感器,用户可以获得微米级别测量精度。控制器预存可编辑,可扩展的材料库。材料的光学特性,如折射率可以通过网络界面存储和编辑,无需安装额外软件。多峰值测量允许多6个峰值,可以测量多层被测物(如夹层玻璃)的厚度。
高分辨率和高测量速度
光谱共焦控制器提供出色的信噪比,确保高精度测量。作为目前的控制器之一,德国米铱光谱共焦位移传感器特别适合高动态检测任务。快速表面补光技术可以快速调节光谱共焦传感器的曝光时间,以实现对于反光特性快速变化表面的稳定测量。输出端口包括RS422, Ethernet或EtherCAT以及模拟量输出。
使用简便的网络界面
源自客户友好的网络界面,光谱共焦位移传感器全部配置过程无需额外软件。网络界面可以通过Ethernet连接,提供设置和配置选项。材料特性被存储于可扩展材料数据库中。
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