光刻胶的主要技术参数及分类

光刻胶的主要技术参数

分辨率（resolution）：是指光刻胶可再现图形的zui小尺寸。一般用关键尺寸来（CD，Critical Dimension）衡量分辨率。

对比度（Contrast）：指光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度。

敏感度（Sensitivity）：光刻胶上产生一个良好的图形所需一定波长光的zui小能量值（或zui小曝光量）。单位：毫焦/平方厘米mJ/cm2。

粘滞性/黏度 （Viscosity）：衡量光刻胶流动特性的参数。光刻胶中的溶剂挥发会使粘滞性增加。

粘附性（Adherence）：是指光刻胶与晶圆之间的粘着强度。

抗蚀性（Anti-etching）：光刻胶黏膜必须保持它的粘附性，并在后续的湿刻和干刻中保护衬体表面，这种性质被称为抗蚀性。

表面张力（Surface Tension）：液体中将表面分子拉向液体主体内的分子间的吸引力。   

光刻胶的分类

1.根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类

正胶（Positive Photo Resist）：曝光前对显影液不可溶，而曝光后变成了可溶的，能得到与掩模板遮光区相同的图形。

负胶（Negative Photo Resist）：反之。

2.  根据光刻胶能形成图形的zui小光刻尺寸来分：

传统光刻胶（正胶和负胶）

      适用于紫外光（UV），I线365nm、H线405nm和G线436nm，关键尺寸在0.35um及其以上。

化学放大光刻胶（CAR，Chemical Amplified Resist）

      适用于深紫外光（DUV），KrF 准分子激光248nm和 ArF准分子激光193nm。