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半导体烘箱

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更新时间：2024-10-22 16:14:04浏览次数：390次

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产品简介
v高性能无氧烘箱能够在氧气浓度低至500ppm的气氛中，加热高达500℃的温度，并对材料进行热处理

详情介绍

v 高性能无氧烘箱能够在氧气浓度低至500 ppm 的气氛中，加热高达 500℃ 的温度，并对材料进行热处理。非常适合各类退火，退应力，和各类抗氧化热处理

v 含氧控制：500PPM以内

v 温度范围：Room temp. +20~500℃

v 控温精度：±1.0℃

v 温度均匀性：±2.5%℃

v 升温时间：RT~ 500℃≤60min

v 容量：可定制


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