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Cm/C型金刚石对顶砧压腔

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更新时间:2024-03-12 15:02:20浏览次数:383

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产品简介

产品介绍:该种cell被广泛用于低温无磁高压科学研究,能够满足轴向与径向进光需求,能与低温装置配合进行光学、X-Ray、电学和同步辐射等相应的实验

详细介绍

产品介绍

该种cell被广泛用于低温无磁高压科学研究,能够满足轴向与径向进光需求,能与低温装置配合进行光学、X-Ray、电学和同步辐射等相应的实验。
Cm型cell技术说明
1、 材质为进口高强铍铜,热处理后硬度HRC41±1;
2、 采用V350材质的该型压腔型号为C型,可以进行更高强度压力实验;
3、加工规范依据公制规格加工,配备进口公制螺丝配件;
4、加工精度要求:平行度优于±0.005,未标注公差±0.02,同轴度0.003,垂直度0.002,光洁度---底座面0.4,端面0.8;WC seat,0.005平行度,未标注公差±0.02,硬度HRC90;
5、外观亚光防锈处理,独立真空包装;
6、每套压机配件:铍铜级M3*20左右旋加压螺丝,各2枚;M1.2顶丝基米8枚,铍铜迷宫碟簧8枚,保护基米1枚,WC垫块2枚;
7、保修1年。
产品参数: 

压砧支撑材料:碳化钨; 

加压机制:螺栓-碟簧加压

顶部张角:30度;底部张角:34度

DAC高度:29.58mm

DAC外径:20.32mm

工作距离:<15mm

中心高度:7.62mm;中心孔径:2.0mm

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