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KAIJO楷捷/超声波清洗机/半导体行业用/C-67S-62

KAIJO楷捷/超声波清洗机/半导体行业用/C-67S-62

超声波清洗主要原理:

1.空化作用

2.加速度

3.物理化学的反应促进作用

超声波清洗应用领域:半导体晶圆、硅晶片、复合晶片、太阳能电池、 HDD (媒体、基板和组件)、磁头、平板显示、玻璃、蓝宝石、水晶印刷电路板、膜、陶瓷、 橡胶、树脂模塑制品、汽车、电子、医疗、加工、精密零件、冲压零件、模具、 金属零件

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化学品：SHINETSU 信越化学、THREEBOND 三键、TOAGOSEI 东亚合成、三井化学MITSUI、KONISHI小西

设备类产品: ONIKAZE 赤松、 SHOWADENKI 昭和电机、、 OSAWA大泽、TROAY东丽 、EOLUS真空企业株式会社、KOTOHIRA琴平工业、REVOX莱宝克斯、SONIC索尼克、TOPCON拓普康、CCS光源、MASDAC 隧道式烘烤炉、鈴与工業株式会社 纳豆生产设备、IKURATOOLS育良精机、 ANLET安耐特、ARIMITSU有光工业、Kitagawa北川

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