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具有超衍射和多受体的新型纳秒激光直写研究进展
2024 10-24
具有超衍射和多受体的新型纳秒激光直写研究进展

近期,为纪念《中国激光》建刊50周年,该刊特设立了激光加工专题。华维纳创始人应邀在该刊物上发表了题为“具有超衍射和多受体的新型纳秒激光直写研究进展”的特邀文章,介绍了新型激光直写在超分辨加工和多受体加

  • 2024 02-23
    新春寄语

    春节过后华夏大地就普降瑞雪,兆示龙年瑞吉。苏州华维纳在2023年里,承蒙广大客户的支持以及自身的努力,取得了一些有意义的成果,促进了华维纳的发展,几个代表性的成果如下:1.顺利向哈尔滨工程大学等新客户

Technology Center

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  • 07-152025
    激光直写技术:原理与优势解析

    激光直写技术是一种基于激光扫描的微纳加工技术,通过计算机控制高能量密度激光束直接在材料表面进行图案化加工。这种技术无需传统光刻所需的掩模板,具有灵活、高效、高精度的特点,在微电子、半导体制造、电路板加

  • 07-072025
    新型纳米激光直写系统:微观世界的精密雕刻师

    在当今科技飞速发展的时代,纳米技术作为前沿科学领域之一,正在深刻改变着我们的生活。其中,新型纳米激光直写系统作为一种高精度的微纳加工设备,在半导体制造、光学元件生产、生物医学研究以及新材料开发等领域展

  • 07-042025
    精密制造的新纪元:纳米激光光刻系统

    在现代微电子与纳米技术领域,追求更小尺寸、更高集成度的芯片制造工艺不断推动着技术革新。纳米激光光刻系统作为一种先进的微细加工技术,在半导体制造、生物传感器制备、纳米结构材料等领域展现出了能力。本文将详

  • 06-202025
    纳米激光光刻系统使用流程技术规范

    纳米激光光刻系统是微纳加工的核心设备,可实现高精度图形直写。以下是其标准化操作流程:一、系统启动与准备工作1.环境准备-洁净度:确保操作间达到Class1000及以上洁净标准,温湿度控制在20&plu

  • 05-222025
    纳米激光直写系统的使用细节与技术要点

    纳米激光直写系统是一种基于激光扫描技术的高精度微纳加工设备,广泛应用于半导体制造、光子学器件、微机电系统(MEMS)及生物芯片等领域。其核心优势在于非接触式加工、灵活图形定义能力以及亚微米级分辨率。以

  • 05-122025
    纳米激光直写系统的性能如何评估

    纳米激光直写系统作为微纳加工领域的核心装备,其性能优劣直接影响功能性器件的制造精度与效率。本文从分辨率、加工质量、稳定性、兼容性等维度构建系统性评估框架,结合物理机制与工程实践揭示关键性能指标的内在关

  • 04-272025
    纳米激光直写的精度如何控制

    纳米激光直写技术通过直接操控激光束在材料表面进行高精度图案化加工,其精度控制涉及激光参数、材料响应、运动平台、环境条件及软件算法等多方面的协同优化。以下从关键技术环节展开分析:一、激光参数与光束调控1

  • 04-112025
    安装纳米激光直写系统要注意哪些细节

    纳米激光直写系统的安装是一个复杂且精细的过程,它涉及到多个关键步骤和高精度的操作。以下是对纳米激光直写系统安装细节的详细描述:一、前期准备1.环境检查:确保安装环境的温度、湿度和洁净度符合设备要求。温

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