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1200℃五温区独立控制管式炉OTF-1200X-V（定制） 参考价：面议
1200℃五温区独立控制管式炉OTF-1200X-V（定制）采用独立的温控装置，可离开炉体进行温控操作，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯度，...
1200℃双温区可倾斜旋转炉OTF-1200X-4-R-Ⅱ 参考价：面议
1200℃双温区可倾斜旋转炉OTF-1200X-4-R-Ⅱ专门针对于材料的混合烧结，特别适用于锂离子电池材料的混合烧结，如 LiFePO3、LiMnNiO3等。...
1700℃三温区高温真空管式炉GSL-1700X-Ⅲ 参考价：面议
1700℃三温区高温真空管式炉GSL-1700X-Ⅲ采用三个数字温度控制器进行独立控温，可设置30段升降温程序，中心加热区采用800℃级硅钼棒加热，另外两个温区...
1200℃七温区独立控制管式炉OTF-1200X-VII（定制） 参考价：面议
1200℃七温区独立控制管式炉OTF-1200X-VII（定制）采用独立的温控装置，可离开炉体进行温控操作，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯...
1400℃双温区真空气氛管式炉GSL-1400X-II 参考价：面议
1400℃双温区真空气氛管式炉GSL-1400X-II以硅碳棒为加热元件，采用S型单铂铑热电偶测温和518P温控仪自动控温。本机设有真空装置，可在多种气氛下工作...
1500℃三温区开启式管式炉OTF-1500X-III 参考价：面议
1500℃三温区开启式管式炉OTF-1500X-III是高温管式炉，Z高温度可达1500℃，三个温区分别用三个独立的温控系统控制，每个温区都可以设置30段升降温...
1600℃双温区高温真空管式炉GSL-1600X-Ⅱ 参考价：面议
1600℃双温区高温真空管式炉GSL-1600X-Ⅱ每个加热区域长300mm，由30段智能温度调节仪进行控温，采用硅钼棒加热元件温度可达1600℃，采用硅碳棒加...
1600℃三温区高温真空管式炉GSL-1600X-III 参考价：面议
1600℃三温区高温真空管式炉GSL-1600X-III主要用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验或小批量生产，针对电子陶瓷的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积...
1700℃双温区高温真空管式炉GSL-1700X-Ⅱ 参考价：面议
1700℃双温区高温真空管式炉GSL-1700X-Ⅱ每个温区长300mm，由30段智能温度调节仪进行控温，采用硅钼棒加热元件温度可达1700℃，采用硅碳棒加热元...
1700℃真空管式炉GSL-1700X-S 参考价：面议
1700℃真空管式炉GSL-1700X-S采用30段程控PID控温仪，Z高温度可达到1700℃，可广泛地用于真空或惰性气体保护状态下材料的烧结和退火。
1800℃高温真空管式炉GSL-1800X 参考价：面议
1800℃高温真空管式炉GSL-1800X内膛中嵌有ZrO2内衬，并采用Kanthal Super-1900硅钼棒为加热元件，Z高温度可以达到1800℃，广泛用...
1800℃高温真空管式炉GSL-1800X-S 参考价：面议
1800℃高温真空管式炉GSL-1800X-S内膛中嵌有ZrO2内衬，并采用Kanthal Super-1900硅钼棒为加热元件，Z高温度可以达到1800℃，广...
1200℃单温区可倾斜旋转炉OTF-1200X-4-R 参考价：面议
1200℃单温区可倾斜旋转炉OTF-1200X-4-R是针对无机化合物煅烧，为获得较好的*性而设计。特别对于锂电池负极材料的制备，具有*的效果，且可提高导电性。...
1200℃三温区可倾斜旋转炉OTF-1200X-5L-R-III 参考价：面议
1200℃三温区可倾斜旋转炉OTF-1200X-5L-R-III主要针对于粉料的混烧，炉管可360°转动，且内部设有4片扬料板，可增加粉料烧结的均匀性...
1500℃单温区可倾斜旋转管式炉GSL-1500X-OTF-R60 参考价：面议
1500℃单温区可倾斜旋转管式炉GSL-1500X-OTF-R60是专门为无机混合物在真空或气氛保护环境下均匀地混烧而设计的，其Z高温度可达1500℃。
1100℃高压氢气管式炉OTF-1200X-60HG 参考价：面议
1100℃高压氢气管式炉OTF-1200X-60HG是专为在氢气条件下处理样品而设计的，Z高温度可达1100℃，采用可编程的30段精密温度控制器。本机炉管采用无...
带3路浮子混气RTP管式炉RTP-1000-LV3F 参考价：面议
带3路浮子混气RTP管式炉RTP-1000-LV3F是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品（尺寸可达3″ ）的退火而设计，配有3路流量计和机械泵。本机采用 9K...
1100℃多工位管式炉GSL-1100X-S 参考价：面议
1100℃多工位管式炉GSL-1100X-S是小口径管式炉，专为制备小型样品而设计Z高温度可达1100℃。炉体可垂直或水平放置，以满足不同的应用，如样品加热、V...
1700℃立式高温管式炉GSL-1700X-80VT 参考价：面议
1700℃立式高温管式炉GSL-1700X-80VT采用硅钼棒进行加热，Z高温度可以达到1700℃，专门针对于材料在真空或气氛保护环境下的烧结。温控系统采用PI...
大口径管式真空气氛炉GSL-1100X 参考价：面议
大口径管式真空气氛炉GSL-1100X采用高纯石英管，外径规格有6″、8″、8.5″、11″可选，并配有不锈钢法兰，可进行抽真空或通入其他气氛气体操作，主要用于...
1200℃开启式双温区管式炉OTF-1200X-II 参考价：面议
1200℃开启式双温区管式炉OTF-1200X-IIZ高温度可达到1200℃，并可通过调节两个独立的控温程序，使炉管内温度场形成一梯度。本机可用CVD方法来生长...
1200℃ 单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL 参考价：面议
1200℃单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL底部安装一对滑轨，可手动进行炉体移动，Z高工作温度达1200°C，加热和冷却速率在真空或者...
1100℃双管三温区管式炉（石墨烯生长）GSL-1100X-III-D11-8 参考价：面议
1100℃双管三温区管式炉（石墨烯生长）GSL-1100X-III-D11-8外炉管直径达到11″，内管直径8.5″，在加热管一端装有一对高真空不锈钢法兰，法兰...
1200℃双管三温区管式炉（石墨烯生长）OTF-1200X-III-D5-4 参考价：面议
1200℃双管三温区管式炉（石墨烯生长）OTF-1200X-III-D5-4Z高工作温度可以达到1200℃，专门针对于用CVD方法在金属箔上生长薄膜物质，如石墨...
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