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超高温真空烧结炉的特点

阅读:283      发布时间:2022-01-07
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超高温真空烧结炉1800°℃、2000℃、2200℃、2600℃

产品用途

主要用于金属陶瓷材料、复合陶瓷材料、纳米相材料、梯度功能材料、纳米热电材料、晶体材料的烧结实验。


技术特点

※该设备使用的WEF. HE系列复合陶瓷发热体不仅可以在氧化气氛下使用,也可以在真空和惰性气体条件下使用,这一技术填充了超高温产品的国际空白。

该设备使用的WEF. HE系列复合陶瓷发热体在氧化气氛条件下最高温度可达2000℃,长期工作温度可达1950℃,在真空和惰性气体条件下最高温度2600℃,长期使用温度可达2200℃,使用条件以订货时的技术参数为准。

该设备升温速度快,在150分钟内可以达到1800℃.

该设备抗热震效果好,可以用于超高温材料的抗热震性能实验,发热体稳定可靠、使用寿命长、维护成本低。

该设备使用WEF. TR系列超高温传感器测量炉内温度,测温精度高、控温性能好。

长期使用温度1800℃(氧化气氛)。



提供商

沃尔福(上海)实业有限公司

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