IR抛光FZ级(Si)硅窗片 1.2-15um (10.0X2mm  窗口片)（晶体/棱镜/窗片）

光学级硅通常规定为具有5至40ohm-cm的电阻率，其电阻率比大多数半导体的都高。 非常高的电阻率材料可客户定制，te别是对于TeraHertz应用。通常的材料为CZ(Czochralski级提拉法生成)，其在9μm具有Si-O吸收带，因此如果在3至5μm光谱带中使用该窗口，则此性质不重要。 如果需要FZ(Float Zone级材料)，可以提供没有这种吸收的（FZ）工艺的材料。硅主要用作3至5um波段的光学窗口并用作光学滤波器的制片基底。 具有抛光面的大块硅也用作物理实验中的中子靶。硅通过Czochralski提拉法技术（CZ）生长并且包含一些导致9um的吸收带的氧。 为了避免这种情况，硅可以通过（FZ）工艺制备。 光学硅通常轻掺杂（5~40 Ohm cm），以在10um以上的波段好的透射。 硅具有30至100um的另一通带，其仅在非常高电阻率的未补偿材料中有效。 掺杂通常是硼（p型）和磷（n型）。

IR抛光FZ级(Si)硅窗片 1.2-15um (10.0X2mm  窗口片)（晶体/棱镜/窗片）

公司简介

筱晓(上海)光子技术有限公司成立于2014年，是一家被上海市评为高新技术企业和拥有“上海市专精特新企业称号"的专业光学服务公司，业务涵盖设备代理以及项目合作研发，公司位于大虹桥商务板块，拥有接近2000m²的办公区域，建有500平优良的AOL(Advanced Optical Labs)光学实验室，为国内外客户提供专业技术支持服务。公司主要经营光学元件、激光光学测试设备、以及光学系统集成业务。十年来，依托专业、强大的技术支持，以及良好的商务支持团队，筱晓的业务范围逐年增长。目前业务覆盖国内外各*高校、*科研机构及相关领域等诸多企事业单位。筱晓拥有一支核心的管理团队以及专业的研发实验室，奠定了我们在设备的拓展应用及自主研发领域坚实的基础。

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