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平面全息光栅

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所  在  地上海市

更新时间:2023-01-04 15:04:29浏览次数:706次

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价格区间 面议 应用领域 医疗卫生,环保,化工,电子,综合
组件类别 其他
平面全息光栅通常用于对杂散光敏感的应用中。其基底镀有光敏材料,将有光敏材料涂层的基板置于由激光器产生的单色光和相干光束组成的相交光束之间,使光敏材料感光。相交激光束产生一系列平行且等距的干涉条纹,条纹强度按照正弦曲线形状变化。由于光敏材料的溶解度由对其照射的光强决定,干涉条纹显示了光敏材料表面不同光强。然后可以对基底镀反射膜然后用与复制刻划的原始光栅相同的过程用于复制。

平面全息光栅


全息光栅通常用于对杂散光敏感的应用中。其基底镀有光敏材料,将有光敏材料涂层的基板置于由激光器产生的单色光和相干光束组成的相交光束之间,使光敏材料感光。相交激光束产生一系列平行且等距的干涉条纹,条纹强度按照正弦曲线形状变化。由于光敏材料的溶解度由对其照射的光强决定,干涉条纹显示了光敏材料表面不同光强。然后可以对基底镀反射膜然后用与复制刻划的原始光栅相同的过程用于复制。由于全息光栅刻线形状以及刻线间距是wan全一致的,所以产生的杂散光远少于刻划光栅。全息光栅可以采用两种凹槽轮廓,正弦和闪耀。


600l/mm---UV


1200l/mm---UV


1800l/mm---UV


2400l/mm---UV


3600l/mm---UV


1200l/mm---VIS


1800l/mm---VIS


2400l/mm---VIS


特征

光栅基片材料:

浮法玻璃

表面光洁度:

60-40

尺寸误差:

±0.5 mm

厚度公差:

±0.5mm

效率:

45%~65% @峰值波长

有效孔径:

90%

损伤阈值:

350mJ/cm2@200ns脉冲激光

40W/cm2(CW)连续激光


产品编号

产品名称

尺寸

刻线数

优化波段

色散

379500

平面光栅 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

紫外(UV)

1.67nm/mrad@250nm

379501

平面光栅 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

紫外(UV)

0.82nm/mrad@250nm

379502

平面光栅 12.7x12.7x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1800Lines/mm

紫外(UV)

0.54nm/mrad@250nm

379503

平面光栅 12.7x12.7x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

2400Lines/mm

紫外(UV)

0.40nm/mrad@250nm

379504

平面光栅 12.7x12.7x6mm 3600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

3600Lines/mm

紫外(UV)

0.25nm/mrad@250nm

379505

平面光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

紫外(UV)

1.67nm/mrad@250nm

379506

平面光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

紫外(UV)

0.82nm/mrad@250nm

379507

平面光栅 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1800Lines/mm

紫外(UV)

0.54nm/mrad@250nm

379508

平面光栅 25x25x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

2400Lines/mm

紫外(UV)

0.40nm/mrad@250nm

379509

平面光栅 25x25x6mm 3600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

3600Lines/mm

紫外(UV)

0.25nm/mrad@250nm

379510

平面光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

紫外(UV)

1.67nm/mrad@250nm

379511

平面光栅 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

紫外(UV)

0.82nm/mrad@250nm

379512

平面光栅 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1800Lines/mm

紫外(UV)

0.54nm/mrad@250nm

379513

平面光栅 50x50x9.5mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

2400Lines/mm

紫外(UV)

0.40nm/mrad@250nm

379514

平面光栅 50x50x9.5mm 3600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

3600Lines/mm

紫外(UV)

0.25nm/mrad@250nm

379515

平面光栅 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

可见 (VIS)

0.79nm/mrad@500nm

379516

平面光栅 12.7x12.7x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1800Lines/mm

可见 (VIS)

0.50nm/mrad@500nm

379517

平面光栅 12.7x12.7x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

2400Lines/mm

可见 (VIS)

0.33nm/mrad@500nm

379518

平面光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

可见 (VIS)

0.79nm/mrad@500nm

379519

平面光栅 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1800Lines/mm

可见 (VIS)

0.50nm/mrad@500nm

379520

平面光栅 25x25x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

2400Lines/mm

可见 (VIS)

0.33nm/mrad@500nm

379521

平面光栅 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

可见 (VIS)

0.79nm/mrad@500nm

379522

平面光栅 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1800Lines/mm

可见 (VIS)

0.50nm/mrad@500nm

379523

平面光栅 50x50x9.5mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

2400Lines/mm

可见 (VIS)

0.33nm/mrad@500nm




全息光栅通常用于对杂散光敏感的应用中。其基底镀有光敏材料,将有光敏材料涂层的基板置于由激光器产生的单色光和相干光束组成的相交光束之间,使光敏材料感光。相交激光束产生一系列平行且等距的干涉条纹,条纹强度按照正弦曲线形状变化。由于光敏材料的溶解度由对其照射的光强决定,干涉条纹显示了光敏材料表面不同光强。然后可以对基底镀反射膜然后用与复制刻划的原始光栅相同的过程用于复制。由于全息光栅刻线形状以及刻线间距是wan全一致的,所以产生的杂散光远少于刻划光栅。全息光栅可以采用两种凹槽轮廓,正弦和闪耀。全息光栅通常用于对杂散光敏感的应用中。其基底镀有光敏材料,将有光敏材料涂层的基板置于由激光器产生的单色光和相干光束组成的相交光束之间,使光敏材料感光。相交激光束产生一系列平行且等距的干涉条纹,条纹强度按照正弦曲线形状变化。由于光敏材料的溶解度由对其照射的光强决定,干涉条纹显示了光敏材料表面不同光强。然后可以对基底镀反射膜然后用与复制刻划的原始光栅相同的过程用于复制。由于全息光栅刻线形状以及刻线间距是wan全一致的,所以产生的杂散光远少于刻划光栅。全息光栅可以采用两种凹槽轮廓,正弦和闪耀。全息光栅通常用于对杂散光敏感的应用中。其基底镀有光敏材料,将有光敏材料涂层的基板置于由激光器产生的单色光和相干光束组成的相交光束之间,使光敏材料感光。相交激光束产生一系列平行且等距的干涉条纹,条纹强度按照正弦曲线形状变化。由于光敏材料的溶解度由对其照射的光强决定,干涉条纹显示了光敏材料表面不同光强。然后可以对基底镀反射膜然后用与复制刻划的原始光栅相同的过程用于复制。由于全息光栅刻线形状以及刻线间距是wan全一致的,所以产生的杂散光远少于刻划光栅。全息光栅可以采用两种凹槽轮廓,正弦和闪耀。

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