箱式气氛炉MXQ1400-30应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。

箱式气氛炉MXQ1400-50应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。

箱式气氛炉MXQ1600-30适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及...

箱式气氛炉MXQ1600-40适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及...

箱式气氛炉MXQ1600-50应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。

箱式气氛炉MXQ1700-30应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。

箱式气氛炉MXQ1700-40适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及...

箱式气氛炉MXQ1700-50适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及...

单温区管式炉MXG1200-60炉子用电动升降机可以倾斜到 30°，直流电机驱动石英管， 以0 - 7 RPM旋转.，石英管尺寸：中间直径10...

单温区管式炉MXG1200-80炉子用电动升降机可以倾斜到 30°，直流电机驱动石英管， 以0 - 7 RPM旋转.，石英管尺寸：中间直径100mm，...

单温区管式炉MXG1200-100炉子用电动升降机可以倾斜到30° ，直流电机驱动石英管，以0 - 7 RPM旋转

单温区管式炉MXG1400-60质硅碳棒（SiC）两侧加热，封闭式，双层结构，外壳与内胆间配有风冷系统，炉体表面温度≤60℃，采用自动PID调节，温控精度&am...

单温区管式炉MXG1400-80质硅碳棒（SiC）两侧加热，封闭式，双层结构，外壳与内胆间配有风冷系统，炉体表面温度≤60℃，采用自动PID调节，温控精度
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单温区管式炉MXG1600-60采用自动PID调节，温控精度±1℃，可抽真空，可充气体，是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿...

单温区管式炉MXG1600-80采用自动PID调节，温控精度±1℃，可抽真空，可充气体，是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气...

单温区管式炉MXG1700-60炉膛采用自动PID调节，温控精度±1℃，可抽真空，可充气体，是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及...

单温区管式炉MXG1700-80炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型，硅钼棒两侧加热，封闭式，双层结构，外壳与内胆间配有风冷系统

SX2-2.5-10N箱式电阻炉：炉门通过多级铰链固定于箱体上。炉门锁定是靠门把手自重，通过杠杆作用将炉门紧扣在炉口上。

SX2-4-10N箱式电阻炉：炉门锁定是靠门把手自重，通过杠杆作用将炉门紧扣在炉口上。开启时只需将把手往上提起，待勾锁脱勾后将炉门往外拉开至电炉左侧便可。

SX2-8-10N箱式电阻炉系周期作业方式，须与KSW型温度控制器及供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件淬火、退火、回火等热处理时加热用，高...