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我们的近红外分析仪可监测半导体、IC、PCB 和太阳能电池制造中酸浴、湿法蚀刻、清洁和回收的溶液强度和水分，苛性酸、苛性碱和清洁溶液是半导体制造、工业清洁和各种其他应用的重要组成部分。需要监测其浓度，以确保有效使用和再利用。在线或在实验室中准确测定这些关键化学品的浓度。在线近红外分析仪与适用于此类半导体生产中的酸和苛性碱。
半导体生产中的酸和苛性碱
仪器可在恶劣的环境中测量，组件由专为湿化学工艺设计的材料制成，本质安全且坚固耐用。在线或在实验室进行测量将实现最佳的检测性能。即使在高浓度和高温的环境下也能测量各种酸和苛性碱。
测量酸、碱、清洁、洗涤和其他溶液：
H2SO4（硫酸） Na2CO3（碳酸钠） HF（氢氟酸） NH4OH（氢氧化铵） 盐酸（盐酸） SC-1
| HNO3（硝酸） SC-2 CH3COOH （醋酸） H2O2（过氧化氢） 氢氧化钠（氢氧化钠） TMAH（四甲基氢氧化铵） |
测量溶液和最终产品中的水分
监控解决方案，确保性能
确保最佳产品质量并降低运营费用
用于实时过程监控的在线分析
在线监测半导体制造和溶液回收中的浓度可以节省成本，最大限度地控制成本，实时监测和控制关键质量参数。在线监测主要成分的浓度，可确保最佳性能并减少工艺变化。
同时测量多达 20 个酸
通过 Modbus、4-20ma 等技术将您的分析仪直接集成到您的控制系统中
实时监控工艺流体，及时了解加工条件
让您的工厂在您设定的范围内运行并保持
在线测量的探头可用于恶劣环境中
